2024年11月18-21日，第十屆國際第三代半導體論壇（IFWS2024）&第二十一屆中國國際半導體照明論壇（SSLCHINA2024）、先進半導體技術應用創新展（CASTAS）將在蘇州國際博覽中心舉辦。
鵬城半導體技術（深圳）有限公司（簡稱“鵬城半導體”）將攜多款設備產品亮相此次展會。值此，誠摯邀請第三代半導體產業同仁共聚論壇，蒞臨A05號展位參觀交流、洽談合作。
關于鵬程半導體 Company Profile
鵬城半導體技術（深圳）有限公司，由哈爾濱工業大學（深圳）與有多年實踐經驗的工程師團隊共同發起創建。公司立足于市場前沿、產業前沿和技術前沿的交叉點，尋求創新引領與可持續發展，解決產業的痛點和國產化難題，爭取產業鏈的自主可控。
公司核心業務是微納材料（含半導體材料）、微納制造工藝、微納裝備的研發設計和生產制造。
Pengcheng Semiconductor Technology (Shenzhen) Co., Ltd. was jointly founded by Harbin Institute of Technology (Shenzhen) and a team of engineers with many years of practical experience. The company is based at the intersection of the market frontier, industrial frontier, and technological frontier, seeking innovation-driven and sustainable development to solve the pain points and domestication problems of the industry and strive for the independent and controllable supply chain.
The core business of the company is the research, design, and production of micro- and nano-scale materials (including semiconductor materials) and micro- and nano-scale manufacturing processes and equipment.
參展產品Products
1：HFCVD熱絲化學氣相沉積設備
研發設計制造了熱絲CVD金剛石設備，分為實驗型設備和生產型設備兩類。
設備主要用于微米晶和納米晶金剛石薄膜的研發和生產。可用于力學級別、熱學級別、光學級別、聲學級別的金剛石產品的研發生產。
可以制造大尺寸金剛石多晶晶圓片，用于大功率器件、高頻器件及大功率激光器的散熱熱沉。
可用于生產制造防腐耐磨硬質涂層；環保領域污水處理用的金剛石產品。
可用于平面工件的金剛石薄膜制備，也可用于刀具表面或其它不規則表面的金剛石硬質涂層制備。
可用于太陽能薄膜電池的研發與生產。
▲ 金剛石薄膜生產線
2：高真空磁控濺射儀（實驗型、生產型）
高真空磁控濺射儀是用磁控濺射的方法，制備金屬、合金、化合物、半導體、陶瓷、介質復合膜及其它化學反應膜等；適用于鍍制各種單層膜、多層膜、摻雜膜及合金膜；可鍍制磁性材料和非磁性材料。
3：分子束外延薄膜生長設備（MBE）
分子束外延薄膜生長設備（MBE）可以在某些襯底上實現外延生長工藝，實現分子自組裝、超晶格、量子阱、一維納米線等。可以進行第二代半導體和第三代半導體的工藝驗證和外延片的生長制造。
分子束外延薄膜生長設備在薄膜外延生長時具有超高的真空環境，是在理想的環境下進行薄膜外延生長，它可以排除在薄膜生長時的各種干擾因素，得到理想的高精度薄膜。
我公司設計制造的分子束外延薄膜生長實驗設備，分實驗型和生產型兩種，配置合理，結構簡單，操作方便，技術先進，性能可靠，用途多，實用性強，價格相對較低，可供各大學的實驗室及科研機構作為分子束外延方面的教學實驗、科學研究及工藝實驗之用。
生產型MBE可用于批量外延片的制備。
4：高真空電子束蒸發鍍膜機
高真空電子束蒸發鍍膜機是在高真空條件下，采用電子束轟擊材料加熱蒸發的方法，在襯底上鍍制各種金屬、氧化物、導電薄膜、光學薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等；可鍍制混合物單層膜、多層膜或摻雜膜；可鍍各種高熔點材料。可用于生產、科學實驗及教學，可根據用戶要求專門訂制。
可根據用戶使用要求，選配石英晶體膜厚自動控制及光學膜厚自動控制兩種方式，通過PLC和工控機聯合實現對整個鍍膜過程的全程自動控制，包括真空系統、烘烤系統、蒸發過程和膜層厚度的監控功能等，從而提高了工作效率和保證產品質量的一致性和穩定性。
5：PECVD等離子體增強化學氣相沉積
PECVD 等離子體增強化學氣相沉積設備主要用于在潔凈真空環境下進行氮化硅和氧化硅的薄膜生長；采用單頻或雙頻等離子增強型化學氣相沉積技術，是沉積高質量的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工藝設備。
6：真空高溫CVD爐
真空高溫CVD 爐，采用高溫化學氣相沉積的方法，在工件表面沉積種薄膜，在半導體工業中應用非常廣泛，包括沉積大面積的絕緣材料，以及大多數金屬材料和金屬合金材料，例如：碳化鉭涂層、碳化硅涂層材料。
例如：可在石墨工件表面沉積碳化鉭涂層和碳化硅涂層。
適用于生產企業及各大高校材料實驗室、科研院所、環保科學等領域。
參會聯系：
第十屆國際第三代半導體論壇（IFWS）
第二十一屆中國國際半導體照明論壇（SSLCHINA）
時間：2024年11月18-21日
地點：江蘇·蘇州國際博覽中心·G館
國際第三代半導體論壇（IFWS）是第三代半導體產業在中國地區的年度盛會，是前瞻性、全球性、高層次的綜合性論壇。會議以促進第三代半導體與電力電子技術、移動通信技術、紫外探測技術和應用的國際交流與合作，引領第三代半導體新興產業的發展方向為活動宗旨，全面覆蓋行業基礎研究、襯底外延工藝、電力電子器件、電路與模塊、下游應用的創新發展，聯結產、學、研、用，提供全球范圍的全產業鏈合作平臺。在過去的九年時間里，IFWS延請寬禁帶半導體領域國際頂級學術權威分享最前沿技術動態，已發展成具有業界影響力的綜合性專業論壇。
中國國際半導體照明論壇（SSLCHINA）是SSL國際系列論壇在中國地區的年度盛會，SSLCHINA是半導體照明領域最具規模、參與度最高、口碑最好的全球性專業論壇。SSL國際系列論壇以促進半導體照明技術和應用的國際交流與合作，引領半導體照明產業的發展方向為活動宗旨，全面覆蓋行業工藝裝備、原材料，技術、產品與應用的創新發展，提供全球范圍的全產業鏈合作平臺，致力于拓展業界所關注的目標市場，以專業精神恒久締造企業的商業價值。
今年，國際第三代半導體論壇與中國國際半導體照明論壇于11月18-21日在蘇州國際博覽中心舉辦，同臺匯力，相映生輝，放眼LED+和先進電子材料更廣闊的未來。
