近日，光谷企業在半導體專用光刻膠領域實現重大突破：武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡稱“太紫微公司”）推出的T150 A光刻膠產品，已通過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計，有望開創國內半導體光刻制造新局面。

該產品對標國際頭部企業主流KrF光刻膠系列。相較于被業內稱之為“妖膠”的國外同系列產品UV1610，T150 A在光刻工藝中表現出的極限分辨率達到120nm，且工藝寬容度更大，穩定性更高，堅膜后烘留膜率優秀，其對后道刻蝕工藝表現更為友好，通過驗證發現T150 A中密集圖形經過刻蝕，下層介質的側壁垂直度表現優異。

太紫微公司成立于2024年5月，由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創立。團隊立足于關鍵光刻膠底層技術研發，在電子化學品領域深耕二十余載。

企業負責人、英國皇家化學會會員、華中科技大學教授朱明強表示：“以原材料的開發為起點，最終獲得具有自主知識產權的配方技術，這只是個開始，我們團隊還會發展一系列應用于不同場景下的KrF與ArF光刻膠，為國內相關產業帶來更多驚喜。”

太紫微核心研發團隊成員（前排左一為朱明強教授）

太紫微公司致力于半導體專用高端電子化學品材料的開發，并以新技術路線為半導體制造開辟新型先進光刻制造技術，同時為材料的分析與驗證提供最全面的手段。

“無論是從國內半導體產業崛起的背景來看，還是從摩爾定律演變的規律展望未來，‘百家爭鳴’的局面已形成，光刻領域還會有很多新技術、新企業破繭成蝶，但擁有科技創新的力量是存活下去的必要前提。”太紫微外聘專家顧問表示。