8月2日，中微公司舉行“20周年盛會華章暨臨港基地落成慶典”。慶典現場宣布，中微公司臨港產業化基地宣布正式啟用。該基地的投入使用，為中微公司加速發展注入新的活力和動力。在不斷研發投入開發設備同時，中微公司還將積極考慮投資和并購，整合產業鏈上下游和相關資源。中微公司預計，未來5到10年，公司將覆蓋集成電路關鍵領域50%至60%的設備。

生產研發基地總面積將達到約45萬平方米

臨港產業化基地占地約157畝、總建筑面積約18萬平方米，配備實驗室、潔凈室、生產車間及智能化立體倉庫等設施，可實現生產全程數字化、智能化管理。

智能制造信息化平臺的搭建，讓中微公司大幅提高了生產質量、生產效率，降低了生產成本，為保證全球客戶供應打下基礎。

除臨港產業化基地全面投入外，2023年7月，14萬平方米的中微公司南昌生產研發基地落成并投入使用，而目前，位于上海臨港新片區滴水湖畔的中微臨港總部暨研發大樓也正在建設中，建成后占地面積約10萬平方米。未來，中微公司的生產和研發基地總面積將達到約45萬平方米。

近年來，中微公司持續加碼創新研發。目前，中微公司在全球范圍內擁有2000多名員工，其中研發人員占比接近半數。截至2024年6月，中微公司累計申請專利已達2648項，已獲授權專利1670項，其中發明專利占比高達85.87%。

不斷開發具有市場競爭力的設備

基于創新投入和創新能力，中微公司在刻蝕設備、薄膜沉積設備、MOCVD設備等領域均取得了顯著成效。在刻蝕設備方面，憑借行業首創的刻蝕設備雙臺機技術，中微公司率先提出“皮米級”加工精度概念，其刻蝕精度已經達到100“皮米”以下水平，相當于頭發絲350萬分之一的精準度，并且產品具備刻蝕應用覆蓋豐富等優勢，能夠滿足90%以上的刻蝕應用需求。據悉，基于在刻蝕設備市場占有率持續提升，中微公司不斷收到領先客戶的批量訂單。

在半導體薄膜沉積設備領域方面，中微公司也推出了多款新產品以滿足市場需求。此外，中微公司新開發的硅和鍺硅外延EPI設備、晶圓邊緣Bevel刻蝕設備等多款新產品，也會在近期投入市場驗證。

在MOCVD設備方面，中微公司自推出第一代MOCVD設備PRISMO A7®以來，不斷豐富產品線且快速升級迭代，目前在Mini LED等氮化鎵基設備領域市場占有率穩居前列，并持續開發用于氮化鎵、碳化硅等功率器件及Micro-LED器件制造的MOCVD設備。同時，中微公司還通過投資布局了第四大設備市場——光學檢測設備。

在集成電路產業飛速發展的浪潮中，中微公司不斷開發具有市場競爭力設備同時，還將整合產業鏈上下游和相關資源作為另一發力點，積極考慮投資和并購。中微公司預計，未來5到10年，公司覆蓋集成電路關鍵領域50%至60%的設備。

一張白紙上籌劃高端芯片設備夢想

“芯片越做越小，我們越戰越強。”慶典現場，中微公司為20周年特別創作的《中微之歌》唱出了所有科創人的心聲和夢想。

中微公司創始人、董事長兼總經理尹志堯表示：“20年前，我們在一張白紙上籌劃實現高端芯片設備的宏偉夢想，20年來，一次次沖破險阻而立于不敗之地，都源自‘攀登勇者，志在巔峰’的雄心壯志和‘自強不息，厚德載物’的團隊奮斗精神！”

尹志堯說，中微公司從事的半導體微觀加工設備產業，是數碼產業基石，選擇的是打造“國之重器”這條艱難的道路，“回首過往的20年，我們實現了從一到十的進展，展望下一個20年，我們要實現10到100的跨越！”

20年來，中微公司從2004年一張白紙開始的初創公司，成長為2019年首批科創板上市企業；從當初一支僅有15人的創業團隊，逐漸成長為如今全球員工超過2000人的規模；從張江高科技園區內一間不起眼的辦公室，逐步發展為廠房和辦公樓面積即將達到45萬平方米的規模；從2007年首臺刻蝕設備、薄膜設備研制成功并運往國內客戶，到2024年公司累計已有超5000個反應臺在國內外130多條生產線實現量產和大規模重復性銷售......如今，中微公司已成為中國國內半導體設備的領先企業，也是國際半導體設備產業冉冉升起的一顆新星。

(來源：證券時報)