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品牌推薦│賽默飛世爾科技誠邀您參加CSE化合物半導體產業博覽會

日期:2024-03-18 閱讀:378
核心提示:賽默飛世爾科技中國將攜新品亮相本屆盛會,誠邀業界同仁蒞臨1T33展臺參觀、交流合作。

 2024年4月8-11日,一年一度化合物半導體行業盛會——2024九峰山論壇暨中國國際化合物半導體產業博覽會(簡稱“JFSC&CSE”)將于武漢光谷科技會展中心舉辦。賽默飛世爾科技中國將攜新品亮相本屆盛會,誠邀業界同仁蒞臨1T33展臺參觀、交流合作。

 賽默飛世爾科技 

本屆CSE博覽會由第三代半導體產業技術創新戰略聯盟、九峰山實驗室共同主辦,以“聚勢賦能 共赴未來”為主題,將匯集全球頂尖的化合物半導體制造技術專家、行業領袖和創新者,采用“示范展示+前沿論壇+技術與商貿交流”的形式,為產業鏈的升階發展搭建供需精準對接平臺,助力企業高效、強力拓展目標客戶資源,加速驅動中國化合物半導體產業鏈的完善和升級。

CSE作為2024年首場國際化合物半導體產業博覽會得到了多方力量的大力支持,三大主題展區,六大領域,將集中展示各鏈條關鍵環節的新技術、新產品、新服務,將打造化合物半導體領域的標桿性展會。助力打造全球化合物半導體平臺、技術、產業的燈塔級盛會,集中展示化合物半導體上下游全產業鏈產品,搭建企業發布年度新產品新技術的首選平臺,支撐產業鏈及中部地區建設具有全球影響力的萬億級光電子信息產業集群。

 

自1982年在中國設立第一個銷售辦事處至今,賽默飛世爾科技已正式進入中國40余年。我們在中國的總部設于上海,并在北京、廣州、香港、成都、沈陽、西安、南京、武漢、濟南等地設立了17個商業辦公室,員工人數超過7000名。我們的產品主要包括分析儀器、實驗室設備、試劑、耗材和軟件等,提供實驗室綜合解決方案以及藥物研發和臨床試驗方案,為各行各業的客戶服務。 為了滿足中國市場的需求,現有9家工廠分別在上海、北京、蘇州和廣州等地運營。我們在全國還設立了6個應用開發中心以及示范實驗室,將世界級的前沿技術和產品帶給中國客戶,并提供應用開發與培訓等多項服務;位于上海和蘇州的2個中國創新研發中心,擁有110多位專業研究人員和工程師及100多項專利。創新中心專注于垂直市場的產品研究和開發,結合中國市場的需求和國內外先進技術,研發適合中國用戶的技術和產品;我們擁有遍布全國的維修服務網點和特別成立的中國技術培訓團隊,在全國有9個服務中心以及2800余名專業人員直接為客戶提供服務。 我們致力于幫助客戶使世界更健康、更清潔、更安全。欲了解更多信息,請登錄網站:www.thermofisher.cn  

產品介紹

ELITE系統 

ELITE系統

先進的封裝應用、復雜的互連方案和更高性能的功率器件的快速增長給故障定位和分析帶來了前所未有的挑戰。有缺陷或性能不佳的半導體器件通常表現出局部功率損耗的異常分布,導致局部溫度升高。Thermo Scientific ELITE 系統利用鎖相紅外熱成像 (LIT) 進行半導體器件故障定位,可以準確有效地定位這些目標區域。ELITE的主要特點有:

· 堆疊裸片分析:可用于定位完全封裝的器件上裸片堆棧內 X、Y 和 Z 深度的缺陷。

·  "無限制"數據累積時間,可獲得更好的分辨率:可以在"無限"的時間內累積更高頻率的 LIT 數據。數據采集持續延長,數據分辨率提高。

·  采集時間越長,靈敏度越高

·  可選透鏡靈活性 

Helios 5 Hydra DualBeam 

Helios 5 Hydra DualBeam

可以提供四種不同的離子種類作為主離子束,讓您可以選擇能為樣品和用例(如掃描透射電子顯微鏡 [STEM] 和透射電子顯微鏡 [TEM] 樣品制備和 3D 材料表征)提供最佳結果的離子。主要特點有:

· 應用空間廣泛:獨特離子源可提供以下四種快速、可切換離子種類,應用空間最為廣泛:Xe、Ar、O、N

·  高通量和高質量:使用下一代 2.5 μA 等離子 FIB 色譜柱進行高通量、高質量和統計學相關的 3D 表征、交叉切片和微加工。

· 先進的自動化:使用選配的 AutoTEM 5 軟件,以最快速輕松的方式實現自動化多點原位和非原位 TEM 樣品制備以及交叉切片

· 高質量樣品制備

· 納米級實現周期短

·  完整的樣品信息

· 電子和離子束誘導沉積和蝕刻

·  精確的樣品導航 

·  無偽影成像
Talos系列(S)TEM

Talos系列(S)TEM

支持快節奏的工藝開發和良率提升,這使得半導體分析實驗室能夠顯著應變,因為它們必須能夠對多種材料和設備進行可重復的高分辨率表征。Talos系列(S)TEM 設計時考慮到這些實驗室,與先前 Talos 模型相比提供了 >1.5 倍快速 EDS 分析,且 TEM 圖像失真 ≤ 1%。速度和重復性改進使 Talos系列(S)TEM 成為設備分析、缺陷表征和良率支持的行業選擇。主要特點有:

· 高質量 (S)TEM 成像:高通量 TEM 成像,盡可能減少失真同時進行多信號檢測和對比度優化的 STEM 成像。

· 精確、高速化學表征:快速、精確、定性或定量 EDS 采集和分析。

· 致力于半導體相關應用:包括:標本-載物臺同步實時 TEM 圖像旋轉、多 STEM 檢測器同時操作、集成微分相差 (iDPC) 成像、STEM 視野匹配、即時 EDS 圖譜量化、圖像失真極小等。

 

值此之際,我們誠邀業界同仁共聚本屆盛會,蒞臨展位現場參觀交流、洽談合作。 

 

關于JFSC&CSE 2024

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