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封頂大吉!三安半導體,碳化硅襯底項目B1棟

日期:2024-02-02 閱讀:530
核心提示:從湖南六建華西公司官微獲悉:2024年1月23日,華西公司三安半導體碳化硅襯底項目B1棟順利封頂!此項目總體分為兩個項目標段,總

從湖南六建華西公司官微獲悉:2024年1月23日,華西公司三安半導體碳化硅襯底項目B1棟順利封頂!

此項目總體分為兩個項目標段,總面積約5.8萬㎡,合同工期僅為8個月,項目于2023年11月15日正式進場施工。

重慶三安半導體碳化硅襯底項目(生活服務設施區)總建筑面積:2.08萬㎡,建筑最高高度:26.20米,B1、B2棟6層框架結構,B3棟為7層框架結構,B4棟6層框剪結構。

安意法半導體8英寸碳化硅外延、芯片項目(生活服務設施區)總建筑面積:3.7萬㎡,建筑最高高度41.10米,A1、A2棟6層框架結構,A3、A4棟12層框剪結構,C1棟3層框架結構。

據悉,該項目業主方為“三安意法半導體(重慶)有限公司”,是我國芯片行業第一個8英寸襯底項目,不僅是建投六建進駐三安光電公司的首個項目,也是闖進重慶市高新區市場的首個項目。一方面為深入挖掘三安光電公司體系內的其他項目奠定基礎,也為拓展其他同類型項目提供了借鑒;另一方面為進一步打開重慶市高新區市場樹立了品牌,有助于進一步提升公司的市場競爭力。

項目建成后將成為重慶市半導體行業發展的新標桿、新名片,進一步推動中國半導體產業的發展。

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