據(jù)悉，國(guó)內(nèi)權(quán)威期刊《激光與光電子學(xué)進(jìn)展》日前發(fā)表由中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所團(tuán)隊(duì)提交的《100 kHz重復(fù)頻率錫液滴靶研究》一文。

 

根據(jù)該文介紹，錫液滴發(fā)生器是激光等離子體型極紫外（LPP-EUV）光刻光源中最重要的核心部件之一。光刻光源要求錫液滴靶具備高重復(fù)頻率、小直徑且穩(wěn)定性好的特性。該論文展示了上海光機(jī)所EUV光源團(tuán)隊(duì)近來(lái)在液滴發(fā)生器方面的研究進(jìn)展，包括液滴直徑、重復(fù)頻率、間距、位置和穩(wěn)定性等。

 

現(xiàn)階段，該所團(tuán)隊(duì)研制的錫液滴發(fā)生器實(shí)驗(yàn)裝置，在100 kHz頻率下噴射的錫液滴直徑~40 μm，間距~230 μm，工作時(shí)長(zhǎng)接近5h。錫液滴在10 s短時(shí)間內(nèi)，豎直和水平方向的位置不穩(wěn)定性分別為2 μm和1 μm左右。

 

不過(guò)對(duì)比目前商用產(chǎn)品，上述指標(biāo)仍有較大差距，如2015年ASML產(chǎn)品中采用的液滴靶，可實(shí)現(xiàn)液滴直徑為27 μm左右，頻率50 kHz，液滴間距大于1 mm，最大可到3 mm，液滴30 s短時(shí)間內(nèi)的位置不穩(wěn)定性~1 μm，連續(xù)工作時(shí)長(zhǎng)一個(gè)月以上，液滴直徑在20 min內(nèi)的不穩(wěn)定性為0.5 μm。

 

該文表示，未來(lái)在錫液滴的可用性性能，如液滴直徑、工作時(shí)長(zhǎng)和長(zhǎng)時(shí)間的位置穩(wěn)定性還需進(jìn)一步提升，相關(guān)的探測(cè)和分析手段也有待完善，以滿(mǎn)足EUV光刻光源對(duì)液滴靶的工程需求。