據日本經濟新聞報道，日本經產省與荷蘭經濟事務和氣候政策部在東京簽署了半導體合作備忘錄。二者將共同推進欲量產 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機巨頭 ASML 的合作，并聯(lián)手進行技術開發(fā)。

報道稱，ASML量產尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus計劃利用經產省提供的補貼，采購EUV光刻設備。EUV光刻機在全球范圍內較為短缺，面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出，如果Rapidus和ASML展開合作，有望強化供應鏈。

出席簽約儀式的日本經產相西村康稔以Rapidus為先例，表示“希望加強半導體領域的政府間合作”。此前，荷蘭與日本先后追隨美國的腳步，加強半導體出口管制。日本7月起將半導體制造設備等23項產品加入出口管制名單，荷蘭也將于本周對ASML的5nm級DUV光刻機 NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i加強出口管制。

（來源：IT之家）