據無錫日報報道，華潤微電子迪思高端掩模項目奠基儀式近期在無錫高新區舉行。此次奠基的迪思高端掩模項目，投資約13億元，將建設40納米先進光掩模產線，助力企業進一步提高掩模制程能力，實現產能和技術水平的雙提升，同時還將填補國內高端掩模代工領域的空白，為無錫加快打造集成電路地標產業注入新的動能。
“迪思高端掩模項目是華潤微電子強化科技創新的關鍵一步。華潤微電子執行董事、總裁”李虹表示，掩模是IC制造的重要一環，是芯片下游產業生產流程銜接的關鍵部分。迪思高端掩模項目落成后，無錫迪思微電子將成為國內最大的開放式掩模工廠之一。下階段，企業將繼續扛好責任擔當、狠抓科技創新，加快高端掩模技術攻關，為促進創新鏈和產業鏈的高效協同、推動集成電路產業高質量發展作出新的更大貢獻。
