盛美上海通過線上會議舉行了科創板上市周年慶暨新品發布會。此次發布的新產品是前道涂膠顯影設備Ultra LITH，這標志著盛美上海正式進入半導體前道光刻領域。據介紹，該新品用于前道300mm晶圓的涂膠顯影，具有4個12英寸裝載端口，8個涂膠腔和8個顯影腔，可進一步擴展到12個涂膠腔和12個顯影腔，適用于i-line、KrF和ArF等多種材料的涂膠顯影工藝。

據悉，Ultra LITH設備采用自主全球專利保護的全新系統結構設計，擁有穩定的電控架構及強大的軟件系統，且具可擴張性，可以支持300 WPH及未來下一代高產出光刻機400 WPH的更高產出需求；搭載高速穩定的機械手系統，多機械手協同配合，可實現晶圓傳輸路徑的優化，提高傳輸效率。

同時，該設備的內部氣流分布進行了優化處理，可減少顆粒污染，強大的清洗技術亦可支持未來浸沒式光刻機對硅片背面的顆粒清洗需求；此外，分區控制的高精度熱板由公司自主研發，已達到業界先進水平。且該設備適配性強，支持主流的光刻機接口。

自2021年11月18日在科創板上市至今，盛美上海持續推進產品多元化戰略，共計發布8款產品，涉及半導體及新型化合物半導體制造工藝的電鍍、清洗、薄膜沉積、涂膠顯影等多個環節。

（來源：上海證券報）