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中科院金屬所發(fā)明一種光控二極管

日期:2022-05-12 來源:中科院金屬研究所閱讀:237
核心提示:未來集成電路的發(fā)展呈現(xiàn)出多元化發(fā)展趨勢,其中光電芯片可實現(xiàn)光傳輸及信息處理功能。通過與現(xiàn)代電子芯片技術的底層融合,支撐未
未來集成電路的發(fā)展呈現(xiàn)出多元化發(fā)展趨勢,其中光電芯片可實現(xiàn)光傳輸及信息處理功能。通過與現(xiàn)代電子芯片技術的底層融合,支撐未來大容量、低功耗、集成化與智能化信息芯片技術的發(fā)展需求。其中,二極管作為一種重要的基本電學元件,在集成電路、大功率驅(qū)動、光學成像等領域具有重要應用,其結(jié)構和功能也十分豐富(圖1)。 
 
光電探測器是一類通過電信號探測光信號的重要半導體器件,包括光電二極管、光電晶體管和光電導等。盡管種類繁多,但光電探測器的信號狀態(tài)在光照前后可歸納為全關態(tài)(0,0)、全開態(tài)(1,1)以及整流態(tài)(0,1)或(1,0)三類(圖2)。已往的光電探測器可以實現(xiàn)兩種狀態(tài)的相互轉(zhuǎn)換,以光電二極管為代表的器件實現(xiàn)由整流態(tài)向全開態(tài)轉(zhuǎn)換,以及以光電導和光電晶體管為代表的器件實現(xiàn)由全關態(tài)向全開態(tài)轉(zhuǎn)換。從圖中的電學行為的完備性出發(fā),理論上應存在一類由全關態(tài)向整流態(tài)轉(zhuǎn)換的新型器件。 
 
近日,中國科學院金屬研究所的科研人員提出了一種光控二極管,通過異質(zhì)結(jié)的設計與構筑,器件獲得了新型光電整流特性,光照條件下電流狀態(tài)實現(xiàn)了由全關態(tài)向整流態(tài)的轉(zhuǎn)換,進而構筑出首例無需選通器件的光電存儲陣列。研究成果于2022年5月10日在《國家科學評論》(National Science Review)在線發(fā)表,題為“一種具有新信號處理行為的光控二極管(A photon-controlled diode with a new signal processing behavior)”。 
 
科研人員使用二硫化鉬n/n-結(jié)作為溝道,利用石墨烯作為接觸電極、六方氮化硼作為光柵層材料,構筑了光控二極管。在一定的柵壓下,黑暗時器件表現(xiàn)為全關態(tài),而光照時則轉(zhuǎn)換成整流態(tài),且具有超過106的電流開關比(圖3)。同時,器件具有光電探測器行為,其響應度超過105 A/W,響應速度小于1s;當六方氮化硼厚度逐步增加時,光控二極管的器件行為轉(zhuǎn)變?yōu)楣怆姶鎯ζ鳎@得迄今最高的非易失響應度(4.8×107 A/W)和最長的保留時間(6.5×106 s)(圖4)。 
 
通過器件能帶結(jié)構的分析,研究人員闡明了器件的工作原理。光控二極管本質(zhì)上是由位于正和負極的兩個石墨烯/二硫化鉬肖特基結(jié)和位于溝道的二硫化鉬n/n-結(jié)串聯(lián)而成。在負柵壓下,處于截止態(tài)的肖特基結(jié)將使器件處于全關態(tài);在光照時,氮化硼光柵層將捕獲光生載流子,從而屏蔽柵壓的調(diào)控作用,使肖特基結(jié)處于導通態(tài),進而使得二硫化鉬n/n-結(jié)的整流特性得以呈現(xiàn),器件處于整流態(tài)(圖5)。研究人員進一步設計構筑了3×3像素的光電存儲陣列,首次在無選通器件的條件下展現(xiàn)了優(yōu)異的抗串擾能力;同時,基于器件對不同波長和強度光信號響應的差異,研究人員演示了陣列對光信號的探測及處理功能,表明了光控二極管具有實現(xiàn)高集成度、低功耗和智能化光電系統(tǒng)的極大潛力(圖6)。 
 
馮順為論文的第一作者,韓如月和張莉莉為共同第一作者,孫東明、劉馳和成會明為論文的通訊作者。該研究工作得到了國家重點研發(fā)計劃項目、國家自然科學基金項目、中科院先導項目、沈陽材料科學國家研究中心等項目支持。 
 
  圖1. 二極管的基本器件類型。 
  圖2. 光電探測器件的基本電流狀態(tài):全關態(tài)(0,0)、全開態(tài)(1,1)和整流態(tài)(0,1)或(1,0)。 
  圖3. 二硫化鉬光控二極管。a. 器件結(jié)構示意圖;b. 局部截面TEM圖像;c. 圖b白色虛線區(qū)域元素分布圖;d. 圖b黑色虛線區(qū)域元素分布圖;e. IA-VA特性(VG = 0 V);f. 在暗態(tài)和光照下的IA-VA特性(VG = -60 V);g. 等效電路圖。 
  圖4. 光控二極管的光電存儲特性。a. 存儲特性;b. 開關特性;c. 405 nm光非易失響應度和探測度;d. 638 nm光非易失響應度和響應度;e-f. 基于不同材料體系的器件性能對比。 
 圖5. 工作機制。a. 全關態(tài)(VA > 0);b. 全關態(tài)(VA < 0);c. 數(shù)據(jù)寫入過程;d. 整流態(tài)(VA > 0);e. 整流態(tài)(VA < 0);f. 數(shù)據(jù)擦除過程。 
  圖6. 光電存儲器陣列應用示例。a. 無選通器的3×3光電存儲陣列;b. 局域放大圖像;c. 制作完成的器件陣列;d. 等效電路圖;e. 無串擾功能驗證;f. 波長依賴關系驗證;g. 功率依賴關系驗證。  

原文鏈接:
https://doi.org/10.1093/nsr/nwac088

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