日前，中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”）發布2021年度業績快報公告。數據顯示，報告期內，中微公司實現營業收入31.08億元，較上年同期增長36.72%;歸屬于母公司所有者的凈利潤10.11億元，較上年同期增長105.49%；歸屬于母公司所有者的扣除非經常性損益的凈利潤為3.22億元，較上年同期增加1281.90%。

圖片來源：中微公司公告截圖

 

對于業績變動的原因，中微公司稱，受益于半導體設備市場發展及公司產品競爭優勢，2021年刻蝕設備收入為20.04億元，較2020年增長約55.44%，毛利率達到44.31%；由于下游市場原因以及本年新簽署的Mini-LED MOCVD設備規模訂單尚未確認收入，2021年MOCVD設備收入為5.03億元，較2020年增長約1.53%，但MOCVD設備的毛利率達到33.77%，較2020年的18.65%有大幅度提升。公司2021年新簽訂單金額為41.3億元，較2020年增加約19.6億元，同比增加約90.5%。

 

同時，因實施股權激勵計劃，公司2021年產生股份支付費用2.15億元，較2020年的1.24億元增加約0.91億元（屬于經常性損益）。

 

中微公司表示，公司2020年投資青島聚源芯星股權投資合伙企業（有限合伙）3億元而間接持有中芯國際股票，因中芯國際股價變動以及公司減持部分中芯國際股票，公司2021年收益約0.39億元，較2020年收益的2.62億元減少約2.23億元。

 

此外，經評估師評估初步結果，公司投資的其他非上市公司股權（以公允價值計量且其變動計入當期損益）于2021年產生公允價值變動收益約3.70億元，較2020年增加約3.70億元。因上述兩項因素合計影響，公司2021年較2020年增加稅前利潤約1.47億元（屬于非經常性損益）。

中微公司主要從事高端半導體設備及泛半導體設備的研發、生產和銷售，其中公司的等離子體刻蝕設備已應用在國際一線客戶從65納米到14納米、7納米和5納米及其他先進的集成電路加工制造生產線及先進封裝生產線；公司MOCVD設備在行業領先客戶的生產線上大規模投入量產，公司已成為世界排名前列的氮化鎵基LED設備制造商。產品包括CCP刻蝕設備、ICP刻蝕設備、深硅刻蝕設備、MOCVD設備、VOC凈化設備等。中微公司研發生產的設備已在海內外眾多技術客戶生產線上投入量產，客戶遍布中國大陸和臺灣地區、新加坡、韓國、日本、俄羅斯、德國、意大利等國家和地區。

 

從上面的業績報告來看，2021年中微公司的新簽訂單大幅增加也是凈利潤增長的主要因素之一。

 

2021年6月，中微公司宣布電感耦合等離子體（ICP）刻蝕設備Primo nanova®第100臺反應腔成功交付客戶。當時，中微公司表示，目前，Primo nanova®產品已成功進入海內外十余家客戶的晶圓生產線，在邏輯芯片、DRAM和3D NAND廠商的生產線上實現大規模量產。

 

2021年11月，中微公司宣布，公司的電容耦合高能等離子體（CCP）刻蝕設備第1500個反應臺順利付運國內一家半導體制造商。本次交付的Primo D-RIE®刻蝕設備反應臺來自該客戶的重復訂單。另外，中微公司的刻蝕設備產品線還包括其他兩款電感耦合低能等離子體（ICP）刻蝕設備和硅通孔（TSV）刻蝕設備。