據(jù)了解，Primo D-RIE®刻蝕設備被全球領先的芯片制造商用于制造存儲和邏輯器件。客戶非常看重該設備在大規(guī)模生產(chǎn)中穩(wěn)定可靠的性能表現(xiàn)、顯著提升的生產(chǎn)率和相對較低的生產(chǎn)成本方面的優(yōu)勢。為優(yōu)化產(chǎn)量而設計，Primo D-RIE®可以配置多達三個雙反應臺反應腔，每個反應腔既可以獨立操作，又可以同時加工兩片晶圓。此外，該設備的突出特點還包括：中微公司具有獨立自主知識產(chǎn)權(quán)的甚高頻和低頻混合射頻去耦合反應等離子體源、等離子體隔離環(huán)、用于控制腔體內(nèi)反應環(huán)境的先進工藝組件。

 

 

自2007年P(guān)rimo D-RIE®發(fā)布以來，中微公司陸續(xù)拓展了CCP刻蝕設備產(chǎn)品線，以滿足客戶日益嚴苛的技術(shù)需求。除Primo D-RIE®雙反應臺刻蝕設備以外，CCP刻蝕設備系列還包括雙反應臺刻蝕設備Primo AD-RIE®、單反應臺刻蝕設備Primo SSC AD-RIE®、Primo HD-RIE®和刻蝕及除膠一體化的 Primo iDEA®。這些產(chǎn)品為客戶提供了全面綜合的設備解決方案，用于5納米及以下工藝的多種應用。中微公司的刻蝕設備產(chǎn)品線還包括其他兩款電感耦合低能等離子體（ICP）刻蝕設備和硅通孔（TSV）刻蝕設備。

 

中微公司等離子體刻蝕設備獨特的創(chuàng)新技術(shù)和不斷快速增長的市場占有率鞏固了在國內(nèi)外半導體前道設備行業(yè)的領先地位，并推動公司持續(xù)發(fā)展。今年到目前為止，用于3D NAND應用的Primo HD-RIE和用于7納米及以下節(jié)點邏輯應用的Primo AD-RIE-e占設備總出貨量的50%。其中，中國大陸和臺灣地區(qū)占比最高。中微公司今年前三個季度的銷售收入比去年同期增長了40.4%，其中刻蝕設備的銷售增長率約100%。

 

中微公司集團副總裁兼等離子體刻蝕產(chǎn)品事業(yè)總部總經(jīng)理倪圖強博士將這一付運里程碑和公司的穩(wěn)步增長歸功于公司的“客戶至上”營運原則，他指出：“中微公司的創(chuàng)新技術(shù)和世界一流的專業(yè)技能使我們的刻蝕設備產(chǎn)品備受領先廠商青睞，我們?yōu)榇烁械阶院馈椭蛻魧崿F(xiàn)他們的技術(shù)和盈利目標激勵著中微公司從管理團隊到基層的每一位員工，并影響著整個產(chǎn)品生命周期的每一個環(huán)節(jié)——從產(chǎn)品設計、設備方案定制到我們的專業(yè)現(xiàn)場工程師提供全方位的服務。我們非常感謝客戶給予中微公司和產(chǎn)品的信任，我們今天取得的里程碑離不開客戶的長期支持。”

 

注：Primo D-RIE®、Primo AD-RIE®、Primo HD-RIE®、Primo SSC AD-RIE®和Primo iDEA®是中微公司的注冊商標。