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外媒:三星電子V1產線部分5nm制程產品良率依然低于50%

日期:2021-07-05 來源:半導體產業網閱讀:313
核心提示:據Businesskorea報道,多名產業內部人士4日表示,三星電子最先進、位于京畿道華城廠的V1產線依然面臨良率不佳的問題,部分5nm制
據Businesskorea報道,多名產業內部人士4日表示,三星電子最先進、位于京畿道華城廠的V1產線依然面臨良率不佳的問題,部分5nm制程產品的良率依然低于50%。而通常來說,半導體制造商的生產良品率應該在95%以上。
 
三星華城V1產線是世界上首個用EUV技術生產7納米以下半導體的產線,它從2020年2月份開始運營,并用于與臺積電展開5納米產品的競爭。
 
報道指出,三星華城園區共有V1、S3及S4等晶圓廠,其中V1為EUV專用廠,于2018年動工,2020年2月完工,是全球首座極紫外光(EUV)專用半導體廠,迄今累計投資至少20萬億韓元(約180億美元)。
 
三星的華城廠V產線是世界第一條專門用極紫外光(EUV)微影技術生產7nm以下半導體產品的產線。然而,半導體業者業務表現最重要的是良率,整體而言,半導體生產業者的良率必須超過95%。但是,業內人士透露,部分5nm制程產品的良率依然低于50%。
 
值得注意的一點是,三星電子正與臺積電5nm以下超微細制程競爭。當前部分5nm制程產品的良率依然低于50%的處境對三星很不利。
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