6月1日，南大光電發布公告稱，公司控股子公司寧波南大光電材料有限公司自主研發的ArF光刻膠產品繼2020年12月在一家存儲芯片制造企業的50nm閃存平臺上通過認證后，近日又在邏輯芯片制造企業55nm技術節點的產品上取得了認證突破。
認證評估結果顯示，本次認證系選擇客戶55nm技術節點邏輯芯片產品的工藝進行驗證，寧波南大光電研發的ArF光刻膠的測試良率結果符合要求，表明其具備55nm平臺后段金屬布線層的工藝要求。
據披露，ArF光刻膠材料是集成電路制造領域的重要關鍵材料，可以用于90nm-14nm甚至7nm技術節點的集成電路制造工藝。廣泛應用于高端芯片制造（如邏輯芯片、存儲芯片、AI芯片、5G芯片和云計算芯片等）。
ArF光刻膠的市場前景好于預期。隨著國內IC行業的快速發展，自主創新和國產化步伐的加快，以及先進制程工藝的應用，將大大拉動光刻膠的用量。
南大光電指出，ArF光刻膠產品與本次認證通過的客戶之間的產品銷售與服務協議尚在協商之中。ArF光刻膠的復雜性決定了其在穩定量產階段仍然存在工藝上的諸多風險，不僅需要技術攻關，還需要在應用中進行工藝的改進、完善，這些都會決定ArF光刻膠的量產規模和經濟效益。
