日前，華特氣體與四川紅華實業正式簽訂了高純三氟化氯生產技術合作開發協議。其中，四川紅華實業為中國核工業集團有限公司全資孫公司。
據華特氣體官網中描述，高純三氟化氯是一種新型蝕刻材料，主要用于芯片制程中的蝕刻、硅片和腔體清洗過程。且由于其氟碳比較高，氟離子自由基較強，這一氣體在先進制程中的應用愈加廣泛，特別在14nm以下制程中具有不可替代的作用。
同時，華特氣體認為，相比于普通的氟碳蝕刻材料，高純三氟化氯的GWP值（全球變暖潛能值）極低，滿足了未來芯片制程向更環保、更可持續方向發展的需求。而此前，高純三氟化氯產品市場主要為日本、美國企業所壟斷，國內較少見到高純三氟化氯可用于芯片制程的報道。
對于此次合作，華特氣體表示，紅華實業技術研發能力強、檢測手段齊全，雙方共同研發高純三氟化氯相關核心技術，能夠在這一領域打破國外壟斷，快速實現進口替代。未來，隨著半導體工藝的不斷升級迭代，高純三氟化氯在芯片制造、第三代半導體、面板等領域將擁有更廣闊的市場潛力。
