前道工藝和后道工藝
從硅圓片制成一個一個的半導體器件,按大工序可分為前道工藝(Front End Of the Line,FEOL,又稱前端工藝)和后道工藝(Back End Of the Line,BEOL,又稱后端工藝)。
前道工藝的最終目的是“在硅圓片上制作出IC電路”,其中包括300~400道工序。按其工藝性質可分為下述幾大類:形成各種薄膜材料的“成膜工藝”;在薄膜上形成圖案并刻蝕,加工成確定形狀的 “光刻工藝”;在硅中摻雜微量導電性雜質的 “雜質摻雜工藝”等。
前道工藝與后道工藝的分界線是劃片、裂片。后道工藝包括切分硅圓片成芯片,把合格的芯片固定(mount)在引線框架的中央島上,將芯片上的電極與引線框架上的電極用細金絲鍵合連接(bonding)。
進一步,為起保護作用,要把芯片封入模壓塑封料中,按印標示品名、型號,電鍍引線,切分引線框架成一個一個的IC,把引線加工成各種各樣的形狀。如此做成的芯片要按IC制品規格分類,檢測可靠性,出廠前最終檢查,作為最初制品到此全部結束。這便是半導體IC器件的全制程。
芯片的誕生分三個步驟,分別是設計、制作和封裝,難度依次減弱。現在全球芯片設計基本集中在美國,制作集中在中國臺灣地區和韓國,中國大陸大部分承擔的是封裝工作,也就是把芯片裝到板上銷售。可以說,在芯片的電路設計這個領域,中國的競爭力遠不如美國和韓國。
這些年來,我國通信產業發展迅速,芯片自給率不斷提升。華為的麒麟芯片不斷追趕世界先進水平,龍芯可以和北斗一起飛上太空,而藍牙音箱、機頂盒等日用品也在大量使用國產芯片。但也要看到,在大容量、多功能,穩定性和可靠性要求更高的通信、軍事等領域,國產芯片還有較大差距。

IC芯片制造工藝流程
只要是電子產品,就離不開芯片。芯片通常分為兩種:一種是功能芯片,比如我們常說的中央處理器(CPU),就是帶有計算功能的芯片;另一種就是存儲芯片,比如計算機里的閃存(FLASH),是一種能儲存信息的芯片。
這兩種芯片,本質上都要用到載有集成電路的硅圓片。設計難,制作也不簡單。我們來看具體過程。首先,需要提取純硅,就是把二氧化硅(通俗地講是沙子)還原成工業硅,經提純、拉制成單晶硅棒,把硅棒切片,就得到了硅圓片——這相當于芯片的地基。就是這個“簡單的”步驟,我們做得也不夠好,表現為晶圓純度、內部缺陷、應力、翹曲度等都有差距,從而影響芯片最終的良率。人們都愿意花高價買高質量的硅圓片,從而獲得最終芯片的高良率,而不愿意花低價買低質量的硅圓片,因為會導致最終芯片的低良率。我國生產的硅圓片打不開國際市場就是憑證。
有了硅圓片后,就要在上面涂上一層膠,名為“光刻膠”。這是一種感光膠狀物,當用紫外線加透鏡去照射某一個部位時,膠面會發生變化,顯影后形成電路圖形,之后利用化學原理進行腐蝕,光照過的部分就會被腐蝕掉,留下凹槽。此時,往凹槽里添加硼、磷等介質,就會出現一個半導體或者電容。依此類推,我們再涂一層膠,再照射,再腐蝕,再摻入……不斷重復,像搭房子一樣搭出一個復雜的集成電路,也就是芯片的核心部分。