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ASML首款用于5nm制程的多光束檢測工具問世

日期:2020-06-02 來源:電子創新網作者:winniewei閱讀:17

處理器廠商開發、設計和制造新的處理器,其中一個重要的方面是計量學,它對整個過程中的制造步驟進行分析,以確保你想要發生的事情是實際發生。計量學可以讓制造廠識別機器是否正常工作,也有助于對最終產品的表征,即通過禁硅片的某些電壓/頻率或分選,如果硅片特別差,可以在循環中提前丟棄,從而節省資金和時間。

如同制造過程中的許多其他步驟一樣,在晶圓廠內,計量是一個時間和空間密集型的工作。正如更好的光刻機轉向EUV目標一樣,既能實現更小的特征,又能加快每片芯片的加工時間,計量的主要目標是準確的報告,這些機器的吞吐量提高,意味著在任何給定的運行中都需要更少的機器,工藝節點步驟之間的延遲可以縮短。

ASML公司宣布其多光束檢測工具生產線有了重大發展。新的eScan1000將單光束掃描過程轉移到九光束掃描過程中,ASML聲稱,對于在線缺陷檢測應用,這類工具的吞吐量提高了600%。該工具適用于當前生產的所有主要工藝節點以及5nm及以上。

該公司解釋說,新的eScan1000工具包含一個電子光學系統,可以將一束主光束分成多個光束,同時還可以收集和處理這些次要光束的結果。該工具將串擾限制2%以下,以保持成像質量,并使用高速模式提高了整體的吞吐量,新的計算硬件加速處理小束數據的速度比以前更快。此外,該工具還可在一定范圍的光束電流下,分配給它用于物理缺陷檢測和電壓對比檢測。ASML宣傳說,它擁有一個專有的數據庫,在缺陷檢測能力方面表現出色,能發現更多傳統計量方法所遺漏的缺陷。

據消息稱,ASML已經在過去一周內將首臺eScan1000系統運往硅谷某特定客戶,在客戶現場進行初步測試和鑒定。但沒有說明客戶是誰。ASML預計將擴大eScan1000設備的范圍,以滿足客戶的特定需求,并表示將繼續開發具有更多光束和更廣泛的光束分辨率的多光束技術。鑒于該工具的重要性,我們可能會在今年晚些時候的某個行業活動中看到路線圖。

來源:cnBeta.COM

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